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  • 碳納米材料反應裝置 查看詳細介紹

    碳納米材料反應裝置 巖征儀器的系統(tǒng)進料、平行性高、重現(xiàn)性好,溫度、壓力、甚攪拌速度均可獨立控制,包括在線取樣分析等操作均可全自動完成,是真正的全自動高通量系統(tǒng),可以數(shù)十倍的提高科研效率,巖征儀器可按照客戶工藝要求,非標定制成套反應系統(tǒng)。

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 廢水催化處理裝置 查看詳細介紹

    廢水催化處理裝置,氧化降解的工藝條件溫和,不需加熱、污水酸堿度范圍寬,無二次污染、催化劑成型可重復穩(wěn)定使用。巖征儀器可按照客戶工藝要求,非標定制成套反應系統(tǒng)。

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 天然氣水合物反應裝置 查看詳細介紹

    巖征儀器天然氣水合物反應裝置,其特征在于,包括仿真實驗井、電潛栗舉升系統(tǒng)、 地層模擬配注系統(tǒng)、分離計量系統(tǒng)和監(jiān)控系統(tǒng);用于天然氣水合物(可燃冰)反應研究、水合物形成條件的測定、抑制劑篩選、熱力學研究等相關研究。

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 金屬材料的制備裝置 查看詳細介紹

    金屬材料的制備裝置,金屬,特別是碳素鋼所代表的鐵類金屬材料由于可得到高強度和硬度,與其它金 屬相比廉價,所以被多地使用。晶體硅是一種重要的非金屬材料.制備純硅的主要步驟如下: ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

    更新時間:2024-05-23

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  • CO2光催化反應裝置 查看詳細介紹

    上海巖征生產(chǎn)的CO2光催化反應裝置光化學高壓反應釜,使用溫度300℃內(nèi),使用壓力:10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳(CO2)還原、二氧化碳(CO2)還原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)還原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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